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      Eksma 飛秒激光脈沖可變衰減器990-0072

      簡要描述:Eksma 飛秒激光脈沖可變衰減器990-0072
      該可變衰減器/分束器由直徑為50.8mm的UV FS薄膜布魯斯特型偏振片組成,該偏振片反射s偏振光,同時透射p偏振光,并安裝在分束器安裝座840-0056-12和石英零階(光學接觸)中。半波片直徑25.4mm(用于飛秒應用)或零級空氣間隔半波片(用于高功率應用),位于旋轉偏振片支架840-0190中,并放置在入射的線性偏振激光束中。

      • 產品品牌:Eksma
      • 廠商性質:經銷商
      • 更新時間:2025-11-01
      • 訪  問  量:1789

      詳細介紹

      品牌Eksma價格區(qū)間面議
      組件類別光學元件應用領域醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子/電池,綜合

      Eksma 飛秒激光脈沖可變衰減器990-0072

      Eksma 飛秒激光脈沖可變衰減器990-0072

      可變衰減器/分束器由帶有偏振片支架的運動學支架制成,配有薄膜布魯斯特型偏振片和石英半波片。

      產品介紹

      ?將激光束分為兩束手動調節(jié)的強度比,以68°角分開

      ?大動態(tài)范圍

      ?透射光束偏移?1mm

      ?高光學損傷閾值

      該可變衰減器/分束器由直徑為50.8mm的UV FS薄膜布魯斯特型偏振片組成,該偏振片反射s偏振光,同時透射p偏振光,并安裝在分束器安裝座840-0056-12和石英零階(光學接觸)中。半波片直徑25.4mm(用于飛秒應用)或零級空氣間隔半波片(用于高功率應用),位于旋轉偏振片支架840-0190中,并放置在入射的線性偏振激光束中。

      可以通過旋轉波片來連續(xù)改變那兩個分離且不同的偏振光束的強度比,而無需改變其他光束參數。可以在很寬的動態(tài)范圍內控制出射光束的強度或其強度比。可以選擇P偏振以獲得較大的透射率,或者當透射光束發(fā)生較大衰減時可以反射高純度s偏振。

      840-0056-12運動學安裝座允許將薄膜Brewster型偏振片的入射角(AOI)調整為±4.5°,并獲得較大的消光對比度。支架位于桿,桿支架和可移動基座820-0090上。

      距桌面的光軸高度可以在78-88 mm的范圍內調節(jié)。可以提供其他高度作為定制,以將標準桿和桿架更改為更高的高度。

      產品型號

      飛秒激光脈沖

      型號

      波長

      激光損傷閾值

      990-0072-266

      266 nm

      > 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

      990-0072-343

      343 nm

      > 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

      990-0072-400

      400 nm

      > 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

      990-0072-515

      515 nm

      > 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

      990-0072-800

      800 nm

      > 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

      990-0072-800B

      780-820 nm

      > 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

      990-0072-1030

      1030 nm

      > 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

      990-0072-1030B

      1010-1050 nm

      > 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

      大功率激光應用

      型號

      波長

      激光損傷閾值

      990-072-266H

      266 nm

      > 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

      990-0072-343H

      343 nm

      > 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

      990-0072-400H

      400 nm

      > 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

      990-0072-515H

      515 nm

      > 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

      990-0072-800H

      800 nm

      > 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

      990-0072-800HB

      780-820 nm

      > 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

      990-0072-1030H

      1030 nm

      > 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm

      990-0072-1030HB

      1010-1050 nm

      > 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm


      孔徑

      22 mm

      損害閾值

      大功率激光應用:

      > 10 mJ / cm2,在800 nm處有50 fs脈沖,典型值

      > 100 mJ / cm2,在800 nm處有50 fs脈沖,典型

      時間色散

      對于100 fs Ti:藍寶石激光脈沖,t<4 fs

      偏振對比

      >1:200


      EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業(yè),醫(yī)學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
      EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質和非線性頻率轉換晶體,光機械,帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
      EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業(yè)務,其基礎是在激光和光學領域的長期專業(yè)知識。

      公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

      我們的激光組件工作在從UV(193 nm)到VIS到IR(20μm)的光譜范圍內,并在太赫茲(1-5 THz)范圍內工作,可在科學,工業(yè),醫(yī)學和美學領域的不同激光和光子學應用中使用,軍事和航空航天市場。

      EKSMA光學拋光設備專門從事由BK7,UVFS,Infrasil,Suprasil,CaF2以及DKDP,KDP,LBO,BBO,ZnGeP2晶體制成的平面光學器件的加工和終拋光,而大功率激光應用需要高質量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設備,球面,軸錐和非球面鏡片CNC制造設備,BBO,DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設備,超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術部門和質量控制設備。

      公司提供的所有組件均經過質量控制實驗室的高質量測試和認證。

      該公司可根據客戶的圖紙和規(guī)格提供定制的光學和晶體組件。但是,我們還提供了廣泛的標準目錄產品,可以快速實現現成的交付。


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