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      平面刻線衍射光柵(50x50x9.5mm)

      簡要描述:平面刻線衍射光柵(50x50x9.5mm)
      制作原始或者母光柵的初始步驟是對基底材料的選擇,通常為玻璃或者銅。將基底材料拋光至高平整度并對其鍍一層很薄的鋁膜。刻劃平行度和刻線的等距需要漫長的時間進行調整,可能需要花費幾天進行設置并在實際刻劃之前進行測試。刻劃機必須能夠在每次刻劃后讓鉆石刀頭按精路線折回,并按預定量對基底進行刻劃。刻線的平行度和位移必須精控制。

      • 產品品牌:其他品牌
      • 廠商性質:經銷商
      • 更新時間:2025-11-03
      • 訪  問  量:1380

      詳細介紹

      品牌其他品牌價格區間面議
      組件類別其他應用領域醫療衛生,環保,化工,電子/電池,綜合

      平面刻線衍射光柵(50x50x9.5mm)


      平面刻線衍射光柵(50x50x9.5mm)

      制作原始或者母光柵的初始步驟是對基底材料的選擇,通常為玻璃或者銅。將基底材料拋光至高平整度并對其鍍一層很薄的鋁膜。刻劃平行度和刻線的等距需要漫長的時間進行調整,可能需要花費幾天進行設置并在實際刻劃之前進行測試。刻劃機必須能夠在每次刻劃后讓鉆石刀頭按精路線折回,并按預定量對基底進行刻劃。刻線的平行度和位移必須精控制。


      75l/mm @10.6μm


      100l/mm @10.6μm


      150l/mm @10.6μm


      300l/mm @300nm


      300l/mm @500nm


      300l/mm @1000nm


      300l/mm @3.5μm


      450l/mm @3.1μm


      600l/mm @250nm


      600l/mm @300nm


      600l/mm @400nm


      600l/mm @500nm


      600l/mm @750nm


      600l/mm @1000nm


      600l/mm @1250nm


      600l/mm @1600nm


      1200l/mm @250nm


      1200l/mm @300nm


      1200l/mm @400nm


      1200l/mm @500nm


      1200l/mm @750nm


      1200l/mm @1000nm


      1800l/mm @500nm


      特征

      材料:

      浮法玻璃

      表面光潔度:

      60-400

      尺寸誤cha:

      ±0.5 mm

      厚度公cha:

      ±0.5mm

      效率:

      60%~80% @閃耀波長

      有效孔徑:

      90%

      損傷閾值:

      350mJ/cm2@200ns脈沖激光

      40W/cm2(CW)連續激光



      產品編號

      產品名稱

      尺寸

      刻線數

      閃耀波長

      閃耀角

      378521

      刻線式光柵 50x50x9.5mm 300Lines/mm 浮法玻璃

      50x50x9.5mm

      300Lines/mm

      300nm

      2°34'

      378522

      刻線式光柵 50x50x9.5mm 300Lines/mm 浮法玻璃

      50x50x9.5mm

      300Lines/mm

      500nm

      4°18

      378523

      刻線式光柵 50x50x9.5mm 300Lines/mm 浮法玻璃

      50x50x9.5mm

      300Lines/mm

      1000nm

      8°36'

      378531

      刻線式光柵 50x50x9.5mm 600Lines/mm 浮法玻璃

      50x50x9.5mm

      600Lines/mm

      300nm

      5°9'

      378532

      刻線式光柵 50x50x9.5mm 600Lines/mm 浮法玻璃

      50x50x9.5mm

      600Lines/mm

      400nm

      6°53'

      378543

      刻線式光柵 50x50x9.5mm 600Lines/mm 浮法玻璃

      50x50x9.5mm

      600Lines/mm

      500nm

      8°37'

      378544

      刻線式光柵 50x50x9.5mm 600Lines/mm 浮法玻璃

      50x50x9.5mm

      600Lines/mm

      750nm

      13°0'

      378545

      刻線式光柵 50x50x9.5mm 600Lines/mm 浮法玻璃

      50x50x9.5mm

      600Lines/mm

      1000nm

      17°27'

      378546

      刻線式光柵 50x50x9.5mm 600Lines/mm 浮法玻璃

      50x50x9.5mm

      600Lines/mm

      1250nm

      22°1'

      378547

      刻線式光柵 50x50x9.5mm 600Lines/mm 浮法玻璃

      50x50x9.5mm

      600Lines/mm

      1600nm

      28°41'

      378554

      刻線式光柵 50x50x9.5mm 1200Lines/mm 浮法玻璃

      50x50x9.5mm

      1200Lines/mm

      250nm

      8°37

      378555

      刻線式光柵 50x50x9.5mm 1200Lines/mm 浮法玻璃

      50x50x9.5mm

      1200Lines/mm

      300nm

      10°22'

      378556

      刻線式光柵 50x50x9.5mm 1200Lines/mm 浮法玻璃

      50x50x9.5mm

      1200Lines/mm

      400nm

      13°53'

      378565

      刻線式光柵 50x50x9.5mm 1200Lines/mm 浮法玻璃

      50x50x9.5mm

      1200Lines/mm

      500nm

      17°27'

      378566

      刻線式光柵 50x50x9.5mm 1200Lines/mm 浮法玻璃

      50x50x9.5mm

      1200Lines/mm

      750nm

      26°44'

      378567

      刻線式光柵 50x50x9.5mm 1200Lines/mm 浮法玻璃

      50x50x9.5mm

      1200Lines/mm

      1000nm

      36°52'

      378568

      刻線式光柵 50x50x9.5mm 1800Lines/mm 浮法玻璃

      50x50x9.5mm

      1800Lines/mm

      500nm

      26°44'



      制作原始或者母光柵的初始步驟是對基底材料的選擇,通常為玻璃或者銅。將基底材料拋光至高平整度并對其鍍一層很薄的鋁膜。刻劃平行度和刻線的等距需要漫長的時間進行調整,可能需要花費幾天進行設置并在實際刻劃之前進行測試。刻劃機必須能夠在每次刻劃后讓鉆石刀頭按精路線折回,并按預定量對基底進行刻劃。刻線的平行度和位移必須精控制。制作原始或者母光柵的初始步驟是對基底材料的選擇,通常為玻璃或者銅。將基底材料拋光至高平整度并對其鍍一層很薄的鋁膜。刻劃平行度和刻線的等距需要漫長的時間進行調整,可能需要花費幾天進行設置并在實際刻劃之前進行測試。刻劃機必須能夠在每次刻劃后讓鉆石刀頭按精路線折回,并按預定量對基底進行刻劃。刻線的平行度和位移必須精控制。制作原始或者母光柵的初始步驟是對基底材料的選擇,通常為玻璃或者銅。將基底材料拋光至高平整度并對其鍍一層很薄的鋁膜。刻劃平行度和刻線的等距需要漫長的時間進行調整,可能需要花費幾天進行設置并在實際刻劃之前進行測試。刻劃機必須能夠在每次刻劃后讓鉆石刀頭按精路線折回,并按預定量對基底進行刻劃。刻線的平行度和位移必須精控制。

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